高溫樣品固定裝置包括固定圓盤、薄管樣品固定夾具和薄片樣品固定夾具；固定圓盤上設(shè)置有若干豎向螺紋通孔，等間距分布在投影位置四周；薄管樣品固定夾具包括定位螺柱，以及鉑筒對電極和管狀工作電極，鉑筒對電極和管狀工作電極呈同心布置；薄片樣品固定夾具包括定位螺柱，以及片狀工作電極和鉑片對電極，定位螺柱的頂部可拆卸式設(shè)置有定位樣品夾，片狀工作電極和鉑片對電極可拆卸式安裝在定位樣品夾上，片狀工作電極和鉑片對電極對稱分布在定位螺柱兩側(cè)。

　　該裝置是一款為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過程而設(shè)計的原位測試裝置，采用加熱爐方式對催化劑進行加熱，樣品加熱溫度更加均勻、準確，原位裝置高度可設(shè)置成500℃，配備進出氣孔，能夠?qū)ρb置整體進行氣氛保護，同時受益于氣路設(shè)計，能夠保證氣體始終有效通過催化劑，采用透射模式進行數(shù)據(jù)采集，裝置兩側(cè)均設(shè)置了X射線窗口，更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應(yīng)用場景中選擇對自己合適的反應(yīng)參數(shù)來進行原位觀測，是這一原位裝置的優(yōu)勢所在。

       高溫樣品固定裝置ProboStat技術(shù)參數(shù)：

　　總體設(shè)計：封閉套管一端固定在裝置上，套管外徑為40mm，長為30-1500px

　　樣品：直徑為10-24mm的盤狀樣品，長為25-50mm棒狀樣品

　　電極數(shù)量：2、3或4溫度：典型長時間加熱：<1400℃短時間加熱：<1600℃

　　氣體氛圍：氧化、惰性、還原、腐蝕；潮濕或干燥；低真空10-2mbar到1個大氣壓（封閉的鋼管中為25bar）支持單氣室或雙氣室模式?！　?/p>

　　高級配置(Extensivelyfurnishedversion)

　　l不同直徑的盤狀樣品；

　　l2-，3-，4-電極設(shè)置；

　　l4-點vanderPauw測量（用于測量任意形狀樣品的電阻率）；

　　l棒狀樣品（4-點測量和Seebeck系數(shù)測量）；

　　l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測量；

　　l濃差電池、遷移數(shù)、透過率、燃料電池測試等。

　　常規(guī)配置(Normalversion)

　　l特定直徑（如12或20mm）的盤狀樣品；

　　l2-、3-電極設(shè)置；

　　l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測量；

　　l濃差電池、遷移數(shù)、透過率、燃料電池測試等。

　　常規(guī)增強配置(Normalplusversion)

　　l包括常規(guī)配置和額外的備用消耗部件；

　　l特定直徑（如12或20mm）的盤狀樣品；

　　l2-、3-電極設(shè)置；

　　l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測量；

　　l濃差電池、遷移數(shù)、透過率、燃料電池測試等。

　　高溫樣品固定裝置應(yīng)用于高溫光氣的氣體濃度檢測及濃度超標報警，可以檢測光氣的濃度并在現(xiàn)場顯示實時濃度值、標準信號輸出，具有信號穩(wěn)定，靈敏度及精度高等特點，隔爆接線方式適用于各種危險場所，可選有線傳輸、局域網(wǎng)、互聯(lián)網(wǎng)、無線傳輸；無線傳輸方式；標配紅外遙控器可在危險場合免開蓋操作，遙控距離15米，簡單實用。
　　裝置各單位可互相切換，自動跟蹤零點防止漂移，多校準，可與計算機通訊，在電腦上通過上位機進行實時監(jiān)控現(xiàn)場探頭的濃度并在電腦上存儲和分析、打印數(shù)據(jù)。